半自动酸碱清洗台
本设备用于半导体电子元器件制造过程中酸碱腐蚀、清洗等湿法处理工艺。
产品描述
1.晶圆规格:6〞wafer。
2.晶圆材质:Si-GaN。
3.片盒规格:25 wafer/cassette。
4.槽体规格:1×6〞cassette/槽。
5.上下料方式:人工手动完成。
6.设备机架:金属结构骨架,外包进口 PP 板材。
7.作业区照明采用 LED 白光灯管。
8.操作门结构:采用左右推拉门结构。
9.设备台面:PP 材质,网孔结构,台面承重≥30KG。
10.设备电控区、管路区、槽体安装区均设维护门。
11.进风口:大小可调。排风口:大小可调。
12.设备支撑:防腐脚轮、支撑地脚。
13.防水托盘:有。
14.电气及软件控制系统。
15.设备安全设置。
产品参数