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光刻板1
光刻板2
手动光刻版
光刻板1
光刻板2
手动光刻版

手动光刻版清洗机

该设备用于半导体器件制程中光刻版湿法清洗工艺。

产品描述


1.材质:Si/SiO2

2.明度:兼容透明/半透明/不透明wafer

3.摆臂扫描范围及速度,升降高度:可设置

4.晶圆传输方式:人工手动传片,干进干出

5.光刻板规格:九寸

6.整机机架:1套

7.清洗干燥单元:1套,C1

8.不锈钢骨架,外壳pp

9.机台配照明装置

10.设备安全保障措施

11.机台配防水底托

12.设备支撑:防腐脚轮、支撑地脚。

13.设备电控区,管路区,槽体安装区均设置维护门

14.排风口:配整机排风口和腔体局部排风口

15.排风可手动分量

产品参数


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