对于从事痕量元素分析的分析检测实验室而言，NexION® 2200 ICP-MS 延续了 40 年 ICP-MS 技术创新的历史，以及可靠、易用、低维护仪器的优良传统，能够提供卓越的性能、精确度和重现性。其独特的三重四极杆设计，结合包括第二代带有 OmniRing™ 技术的三锥接口在内的一系列全新和成熟技术，实现了 超高灵敏度、卓越的干扰去除能力、优异的稳定性、无与伦比的基体耐受性、高通量/更长运行时间，并兼顾 可持续性和低运行成本.NMP广泛应用于半导体工艺，用于清除光刻胶工艺后残留的光刻胶有机物。检测NMP等有机样品中超痕量元素时，受到这 些基体离子化生成的碳、氮及氧的直接或间接干扰，增加了分析的难度。为了免受氩的干扰，通常的ICP-MS在分析NMP 等 高基体样品时使用冷等离子体，由于等离子能量低，试样中的目标分析元素难以充分离子化，导致灵敏度低，持续分析时信 号不断减弱，而且在用外标法定量时，由于基体不匹配等问题，还会导致错误的结果。同时，未分解的NMP还会对ICP-MS 的进样系统、真空泵及质量过滤器造成严重污染。而珀金埃尔默的NexION 2200S UCT- ICP-MS 系统，所有分析均使用热等 离子体，不存在竞争公司设备常见的灵敏度低下、定量方法受限、硬件故障等问题，在NMP 介质中也能以1ppt的高灵敏度 进行分析

NexION 2200 ICP-MS 融合了一系列独有技术：

三重四极杆设计

• 离子偏转四极杆 (Q0)：通过调节电压将离子引导至通用反应池 (Q1)，在提高目标离子灵敏度的同时减少不需要的离子质量。

• 通用反应池四极杆 (Q1)：可使用最多三种气体，并支持实时混气，运行在碰撞或反应模式下。其独特的动态带宽调谐技术可防止反应副产物对目标分析物造成干扰。

• 传输分析四极杆 (Q2)：全尺寸设计，质量分辨率 < 0.7 amu，可作为质量过滤器或离子导向器，将离子传送至检测器。

第二代三锥接口 + OmniRing™ 技术

专利申请中的 OmniRing™ 技术提供前所未有的灵活性，无需像其他商用 ICP-MS 一样更换不同的插入件或透镜，即可根据需求实现三种操作模式，适应多种应用场景。

扩展动态范围 (EDR) 技术

独有的 EDR 技术可将线性动态范围扩展至 10¹⁴，在一次分析运行中同时测定高浓度与低浓度元素，减少重复分析。

全矩阵解决方案 (AMS)

支持在线气体稀释，提高效率并防止污染，实现高达 200 倍稀释，可处理高达 35% 总溶解固体 (TDS) 的复杂样品。

新型自由运行射频发生器 + LumiCoil™ RF 线圈

特别为 ICP-MS 设计，提供精确阻抗匹配，轻松应对复杂基体和溶剂。该组合能提供更高的等离子体功率和稳定性，保证性能、耐用性和可靠性。

低维护设计，提升运行时间

• 三锥接口 + Q0 离子偏转 组合使得除锥体外几乎无需维护，实现连续运行和更高稳定性。

• 34 MHz 自由运行射频发生器 + LumiCoil™ 线圈 无需水或气体冷却，免维护，避免了传统负载线圈的更换。

• 创新 LCD 触控屏：支持硬件控制、结果查看、仪器诊断、分析功能，以及访问内嵌培训视频等日常操作。

• 外部状态 LED 灯：实时显示分析状态，提高实验室工作效率。

软件支持

Syngistix™ for ICP-MS 软件具有现代化、直观的用户界面，采用类似日常工作流程的左到右导航方式，操作简洁流畅。